刘文1,2,3，王磊2，周宁1,3，张义文2，邱飞2，徐志谋2，王定理1,3，李林松1,3，曹明德1,3
1武汉邮电科学研究院光纤通信技术和网络国家重点实验室（筹），湖北 武汉 430074
2华中科技大学武汉光电国家实验室（筹），湖北 武汉 430074
3武汉邮电科学研究院光迅科技股份有限公司，湖北 武汉 430074
摘 要：适合DWDM系统应用的高性能DFB半导体激光器是现代光通信系统中发射机的核心光电子器件，光栅的设计和制作是决定器件性能的关键因素之一。目前，基于MOCVD设备的材料外延技术趋于稳定，高速器件封装技术也已经成熟，满足DWDM需求的DFB光栅的加工渐渐成为进一步降低成本的一个瓶颈。本文利用纳米压印技术制作DFB激光器光栅。结果表明，利用纳米压印技术制作出来的DFB激光器性能不逊于用EBL直接制作出的高性能激光器，不仅可以满足DWDM系统的要求，而且还具有生产效率高、成本低的优点。
关键词：DFB激光器；纳米压印；DWDM；光通信
全文请见《中国通信》（中英文版）2010年第三期（Vol.7 No.3）